金剛石作為第四代半導體材料，具有極其優(yōu)越的物理化學特性，在諸多高科技領(lǐng)域具有很好的應(yīng)用前景。金剛石拋光技術(shù)的研究不但突破了金剛石在高科技領(lǐng)域的應(yīng)用瓶頸，還帶動了一些新工藝、新方法和新技術(shù)的發(fā)展。本書以作者多年的科研成果為基礎(chǔ)，匯集國內(nèi)外金剛石領(lǐng)域的**進展，全面系統(tǒng)地對金剛石應(yīng)用和拋光技術(shù)的重要成果進行了歸納和總結(jié)，內(nèi)容主要包括：金剛石的結(jié)構(gòu)及性能，金剛石膜的應(yīng)用，金剛石膜的制備技術(shù)，金剛石膜的去除機理與拋光理論，金剛石膜的機械拋光技術(shù)、摩擦化學拋光技術(shù)、化學機械拋光技術(shù)、光催化輔助拋光技術(shù)及特

整書內(nèi)容分為三篇，共15章。第一篇即第1～6章，介紹熱障涂層的破壞理論，其中第1章和第2章分別介紹熱力化耦合的理論框架和非線性有限元理論，第3～6章分別介紹熱障涂層界面氧化、CMAS腐蝕、沖蝕熱力化耦合的破壞理論與機制。第二篇即第7～12章，介紹熱障涂層性能與損傷的表征技術(shù)，第7～9章凝練熱障涂層基本力學性能、斷裂韌性、殘余應(yīng)力的各種先進表征方法，第10～12章介紹裂紋、界面氧化、應(yīng)力應(yīng)變場等關(guān)鍵損傷參量的無損實時表征方法。第三篇即第13～15章，介紹熱障涂層性能評價技術(shù)，包括隔熱與強度綜合效果

本書著眼于目前常用的PVD氮化物涂層在高溫環(huán)境下的摩擦學特性，模擬涂層使用的真實環(huán)境，分析了五種PVD氮化物涂層的制備、性能、高溫氧化特性，著重探討了PVD氮化物涂層的高溫摩擦磨損特性及磨損機理，總結(jié)了PVD氮化物涂層材料的研究現(xiàn)狀及發(fā)展趨勢，從而為開發(fā)新的涂層材料提供有效的理論依據(jù)。本書可為機械領(lǐng)域和材料領(lǐng)域的工程技術(shù)人員及科研人員提供幫助，也可供高校相關(guān)專業(yè)師生學習參考。