薄膜是一種一維線性尺度遠小于其他二維尺度的物質(zhì)形態(tài)，在厚度這一特定的方向上尺寸很小，一直可以延伸到單個分子層（或原子層）。正是基于薄膜的這種特殊的形態(tài)，在制備和研究薄膜的過程中，需要先進的技術(shù)手段作為支撐。隨著電子工業(yè)和信息產(chǎn)業(yè)的高速發(fā)展，特別是在電子器件領域的發(fā)展，薄膜材料的研究和工業(yè)化得到了極大的推進。器件的微型化，使得用于器件的薄膜材料厚度不斷減薄，達到了納米級，甚至出現(xiàn)了單層材料，獲得了許多全新的物理性能，這不僅保留了器件原來功能，并使這些功能得到了加強和拓展。薄膜技術(shù)作為器件微型化的關鍵技術(shù)，是制備這些新型器件的有效手段。在其他領域薄膜材料也得到了廣泛的應用，諸如航天、醫(yī)藥、能源、交通等，薄膜材料與技術(shù)已經(jīng)滲透到了現(xiàn)代科技的各個重要領域。正是由于薄膜材料及技術(shù)的飛速發(fā)展，要想更好地制備具有優(yōu)異性能、符合某一領域應用要求的薄膜材料，必須掌握各種成膜技術(shù)和薄膜物理的基礎知識。特別是近年來發(fā)展了一些新的薄膜制備技術(shù)，例如原子層沉積鍍膜技術(shù)、自組裝鍍膜技術(shù)等，是從事薄膜制備和研究的人員需要學習和了解的�；�于上述背景，本書系統(tǒng)地介紹了薄膜材料的制備方法及其應用實例。
　　薄膜的研究及制備技術(shù)源于17世紀，隨后各種制備薄膜的方法相繼誕生。薄膜制備技術(shù)也由最初簡單的物理蒸發(fā)、化學反應發(fā)展到現(xiàn)如今以物理氣相沉積和化學氣相沉積為代表的先進成膜技術(shù)，其中包括真空蒸鍍、濺射、激光脈沖沉積、分子束外延、化學氣相沉積、原子層沉積、自組裝等等。這些薄膜制備方法都有著各自的原理、設備、優(yōu)缺點和應用背景。本書的重點在于介紹薄膜制備原理及設備、技術(shù)特點與不足、種類、應用實例等方面，使讀者能夠了解每一種薄膜制備工藝概況，并從一些應用實例上加以體會和分析。
　　在內(nèi)容編排方面，第1章對真空技術(shù)的基礎知識做了介紹。第2章到第10章重點介紹和討論了薄膜的各種制備技術(shù)，包括真空蒸發(fā)鍍膜、分子束外延、濺射鍍膜、激光脈沖沉積、離子鍍膜、化學氣相沉積、原子層沉積、溶液鍍膜以及自組裝鍍膜，并列舉了典型的薄膜應用實例。
　　本書由西北工業(yè)大學馮麗萍、劉正堂編著。馮麗萍負責本書的編寫立項和統(tǒng)稿，并編寫了第2章、第3章、第6章、第7章、第9章和第10章。劉正堂教授編寫了第1章、第4章、第5章和第8章，并審閱了全部書稿。博士研究生李寧、蘇杰、曾為分別參與了第2章、第4章和第10章的撰寫，碩士研究生李大鵬、孟勇強分別參與了第6章和第9章的撰寫。