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現(xiàn)代合金電沉積理論與技術(shù)

現(xiàn)代合金電沉積理論與技術(shù)

定  價(jià):128 元

        

  • 作者:屠振密,安茂忠,胡會(huì)利 著
  • 出版時(shí)間:2016/5/1
  • ISBN:9787118107630
  • 出 版 社:國(guó)防工業(yè)出版社
  • 中圖法分類:TG131 
  • 頁碼:426
  • 紙張:膠版紙
  • 版次:1
  • 開本:16開
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  《現(xiàn)代合金電沉積理論與技術(shù)》以合金電沉積理論和技術(shù)為主線,主要內(nèi)容包括基本原理和工藝技術(shù)兩部分。其中基本原理部分包括:①合金電沉積的歷史分類和發(fā)展前景;②合金電沉積的陽過程和陰過程;③電沉積合金的相結(jié)構(gòu)和晶體結(jié)構(gòu)、合金電沉積類型和影響因素。
  工藝技術(shù)部分包括:①電沉積鋅基合金;②電沉積銅基合金;③電沉積錫基合金;④電沉積鎳基合金;⑤電沉積鐵基、鈷基、鉻基合金;⑥電沉積貴金屬合金;⑦電沉積非晶態(tài)合金;⑧電沉積納米晶合金;⑨電沉積合金復(fù)合沉積層;⑩離子液體電沉積合金。作者在編寫過程中,注重采用和推行新技術(shù)、新工藝、新材料和新設(shè)備,書內(nèi)介紹了許多新近發(fā)展起來的新技術(shù):如電沉積非晶態(tài)合金、電沉積納米晶合金、離子液體電沉積合金及電沉積合金復(fù)合層等,使合金電沉積技術(shù)部分的內(nèi)容*加充實(shí)和完善。
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