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磁控濺射制備氮化銅薄膜的結(jié)構(gòu)與性能 
定 價：57 元
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磁控濺射是一種通用、成熟的薄膜制備工藝技術(shù)，其制備工藝可調(diào)劑參數(shù)較多，通過精細(xì)控制能夠?qū)崿F(xiàn)對薄膜結(jié)構(gòu)的有效調(diào)控�！洞趴貫R射制備氮化銅薄膜的結(jié)構(gòu)與性能》研究了薄膜的工藝參數(shù)、薄膜結(jié)構(gòu)與性能等之間的內(nèi)在關(guān)系，探討了薄膜的電子輸運(yùn)、光學(xué)帶隙、熱穩(wěn)定性的有關(guān)物理量的變化機(jī)制。全書結(jié)構(gòu)合理，條理清晰，內(nèi)容豐富新穎，可供相關(guān)工程技術(shù)人員參考使用。
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