在 十四五背景下，隨著知識(shí)產(chǎn)權(quán)強(qiáng)國(guó)戰(zhàn)略地位的不斷提升，半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)步入加速發(fā)展階段，同時(shí)新興產(chǎn)業(yè)的崛起，推動(dòng)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)技術(shù)不斷更新?lián)Q代，其專利作為重要的技術(shù)創(chuàng)新成果，具有很高的產(chǎn)業(yè)價(jià)值，因此半導(dǎo)體領(lǐng)域的專利申請(qǐng)備受創(chuàng)新主體和社會(huì)大眾的關(guān)注。
本書(shū)圍繞半導(dǎo)體領(lǐng)域技術(shù)發(fā)展迅速、備受市場(chǎng)關(guān)注的五個(gè)技術(shù)領(lǐng)域，即存儲(chǔ)器件、功率器件、新型封裝、新型顯示和高效率太陽(yáng)能電池，并選取每個(gè)技術(shù)領(lǐng)域的重點(diǎn)子領(lǐng)域作為研究對(duì)象，以國(guó)內(nèi)外發(fā)明專利申請(qǐng)為切入點(diǎn)，介紹各領(lǐng)域的專利技術(shù)發(fā)展?fàn)顩r和專利申請(qǐng)保護(hù)現(xiàn)狀，并針對(duì)重點(diǎn)申請(qǐng)人和重點(diǎn)技術(shù)進(jìn)行詳細(xì)闡述。在此基礎(chǔ)上，介紹各領(lǐng)域?qū)＠�文獻(xiàn)檢索的特點(diǎn)、檢索策略和主要檢索要素，并通過(guò)實(shí)際案例進(jìn)行解析。最后，介紹各領(lǐng)域?qū)＠�申�?qǐng)文件撰寫(xiě)的特點(diǎn)，分析申請(qǐng)文件撰寫(xiě)中的常見(jiàn)問(wèn)題，并結(jié)合典型案例給出撰寫(xiě)建議。
本書(shū)內(nèi)容全面，受眾廣泛，既包括對(duì)專利技術(shù)現(xiàn)狀的分析，又包括對(duì)專利檢索和專利申請(qǐng)文件撰寫(xiě)的介紹，對(duì)該領(lǐng)域創(chuàng)新主體、相關(guān)研發(fā)人員以及專利工作人員具有一定的借鑒意義。
本書(shū)使用說(shuō)明：
１.專利技術(shù)綜述部分的分析，主要以全球?qū)＠�文獻(xiàn)數(shù)據(jù)庫(kù) （德溫特世界專利索引數(shù)據(jù)庫(kù)，ＤＷＰＩ）作為專利數(shù)據(jù)采集的數(shù)據(jù)庫(kù)，檢索范圍包括 ２０２２年 ２月 ２８日以前公開(kāi)的專利申請(qǐng)數(shù)據(jù)；由于專利申請(qǐng)從提出申請(qǐng)到公開(kāi)有一定時(shí)間間隔，專利申請(qǐng)從公開(kāi)到被收錄至專利文獻(xiàn)數(shù)據(jù)庫(kù)也存在時(shí)間滯后性，因此２０２０２０２１年的數(shù)據(jù)均與實(shí)際量存在偏差，少于實(shí)際的申請(qǐng)量；同一項(xiàng)發(fā)明可能在多個(gè)國(guó)家或地區(qū)提出專利申請(qǐng)，ＤＷＰＩ數(shù)據(jù)庫(kù)將這些相關(guān)申請(qǐng)作為一條記錄收錄，在進(jìn)行專利申請(qǐng)數(shù)量統(tǒng)計(jì)時(shí)，計(jì)算為 １項(xiàng)，在統(tǒng)計(jì)不同國(guó)家、地區(qū)所提出的專利申請(qǐng)的分布時(shí)，已將不同國(guó)家同族分開(kāi)進(jìn)行統(tǒng)計(jì)，因此在此情況下對(duì)專利申請(qǐng)數(shù)量用 件進(jìn)行計(jì)數(shù)。
２. 在專利技術(shù)綜述部分的專利申請(qǐng)來(lái)源和目標(biāo)國(guó)家／地區(qū)分析中，所提及的在 歐洲的專利申請(qǐng)，是指向歐洲專利局 （EPO）提出的申請(qǐng)專利。由于專利保護(hù)具有地域性特點(diǎn)，中國(guó)臺(tái)灣地區(qū)有獨(dú)立的專利申請(qǐng)?bào)w系，故本書(shū)將中國(guó)臺(tái)灣地區(qū)的數(shù)據(jù)單列闡釋。
３. 檢索策略和案例分析部分，其中使用的 IPC分類(lèi)號(hào)版本為 2022.01版，CPC分類(lèi)號(hào)版本為 2022.05版。
４. 本書(shū)中的 《專利法》是指 《中華人民共和國(guó)專利法》（２０２０修正），《專利法實(shí)施細(xì)則》是指 《中華人民共和國(guó)專利法實(shí)施細(xì)則 （２０１０）》，《專利審查指南》是指 《專利審查指南 ２０１０（２０１９年修訂）》。
本書(shū)撰寫(xiě)分工如下：第一章撰寫(xiě)人為王興妍、車(chē)曉璐、甄麗娟；第二章撰寫(xiě)人為王丹、章放、丁寧；第三章撰寫(xiě)人為楊子芳、李曉明、紀(jì)騁；第四章撰寫(xiě)人為楊子芳、楊麗麗、齊哲；第五章撰寫(xiě)人為王丹、柴春英、陳澤。全書(shū)統(tǒng)稿人為王興妍、王丹、楊子芳。此外，楊賀參與第二章部分檢索工作，在此一并表示感謝。