本書(shū)較為系統(tǒng)、全面地介紹了與薄膜制備技術(shù)相關(guān)的各種基礎(chǔ)知識(shí)，涉及了薄膜制備系統(tǒng)、典型的物理制膜與化學(xué)制膜方法、薄膜加工方法，以及常用的薄膜性能表征技術(shù)，同時(shí)緊密結(jié)合當(dāng)前薄膜領(lǐng)域最先進(jìn)的技術(shù)、方法和裝置。
原外版書(shū)作者長(zhǎng)期在薄膜科學(xué)與技術(shù)領(lǐng)域從事研究、開(kāi)發(fā)和教育工作，有豐富的工作經(jīng)驗(yàn)與廣博的專(zhuān)業(yè)知識(shí)。本書(shū)自初版以來(lái)，已有三十余年，迄今已4次再版，反映了本書(shū)在這一領(lǐng)域具有較為深遠(yuǎn)的影響。
本書(shū)的內(nèi)容豐富，由淺入深，對(duì)于材料科學(xué)、微電子專(zhuān)業(yè)學(xué)生而言是一本良好的基礎(chǔ)教材；對(duì)于在這一領(lǐng)域?qū)W習(xí)、工作的人員而言，具有很好的參考價(jià)值。
第1章 薄膜技術(shù)
1.1 生物計(jì)算(biocomputing)和薄膜技術(shù)
1.2 醫(yī)用微型機(jī)械
1.3 人工腦的實(shí)現(xiàn)（μElectronics）
1.4 大型顯示的實(shí)現(xiàn)
1.5 原子操控
1.6 薄膜技術(shù)概略
參考文獻(xiàn)
第2章 真空的基礎(chǔ)
2.1 真空的定義
2.2 真空的單位
2.3 氣體的性質(zhì)
2.3.1 平均速率 Va
2.3.2 分子直徑 δ
2.3.3 平均自由程 L 第1章 薄膜技術(shù)
1.1 生物計(jì)算(biocomputing)和薄膜技術(shù)
1.2 醫(yī)用微型機(jī)械
1.3 人工腦的實(shí)現(xiàn)（μElectronics）
1.4 大型顯示的實(shí)現(xiàn)
1.5 原子操控
1.6 薄膜技術(shù)概略
參考文獻(xiàn)
第2章 真空的基礎(chǔ)
2.1 真空的定義
2.2 真空的單位
2.3 氣體的性質(zhì)
2.3.1 平均速率 Va
2.3.2 分子直徑 δ
2.3.3 平均自由程 L
2.3.4 碰撞頻率 Z
2.4 氣體的流動(dòng)和流導(dǎo)
2.4.1 孔的流導(dǎo)
2.4.2 長(zhǎng)管的流導(dǎo) （L/a≥100）
2.4.3 短管的流導(dǎo)
2.4.4 流導(dǎo)的合成
2.5 蒸發(fā)速率
參考文獻(xiàn)
第3章 真空泵和真空測(cè)量
3.1 真空泵
3.1.1 油封式旋片機(jī)械泵
3.1.2 油擴(kuò)散泵
3.1.3 吸附泵
3.1.4 濺射離子泵
3.1.5 升華泵
3.1.6 冷凝泵
3.1.7 渦輪泵（分子泵）和復(fù)合渦輪泵
3.1.8 干式機(jī)械泵
3.2 真空測(cè)量?jī)x器——全壓計(jì)
3.2.1 熱導(dǎo)型真空計(jì)
3.2.2 電離真空計(jì)——電離規(guī)
3.2.3 磁控管真空計(jì)
3.2.4 蓋斯勒（Geissler）規(guī)管
3.2.5 隔膜真空計(jì)
3.2.6 石英晶振真空計(jì)
3.2.7 組合式真空規(guī)
3.2.8 真空計(jì)的安裝方法
3.3 真空測(cè)量?jī)x器——分壓計(jì)
3.3.1 磁偏轉(zhuǎn)型質(zhì)譜儀
3.3.2 四極質(zhì)譜儀
3.3.3 有機(jī)物質(zhì)質(zhì)量分析IAMS法
參考文獻(xiàn)
第4章 真空系統(tǒng)
4.1 抽氣的原理
4.2 材料的放氣
4.3 抽氣時(shí)間的推算
4.4 用于制備薄膜的真空系統(tǒng)
4.4.1 殘留氣體
4.4.2 用于制備薄膜的真空系統(tǒng)
4.5 真空檢漏
4.5.1 檢漏方法
4.5.2 檢漏應(yīng)用實(shí)例
參考文獻(xiàn)
第5章 薄膜基礎(chǔ)
第6章 薄膜的制備方法
第7章 基板
第8章 蒸鍍法
第9章 濺射
第10章 氣相沉積CVD和熱氧化氮化
第11章 刻蝕
第12章 精密電鍍
第13章 平坦化技術(shù)
參考文獻(xiàn)
書(shū)單推薦
