為了應對我國在集成電路領域,尤其是光刻技術方面嚴重落后于發(fā)達國家的局面,破解光刻制造設備、材料和光學鄰近效應修正軟件幾乎完全依賴進口的困境,作為從事光刻工藝研發(fā)近 20 年的資深研發(fā)人員,作
者肩負著協(xié)助光刻設備、材料和軟件等產(chǎn)業(yè)鏈共同研發(fā)和發(fā)展的責任,將近 20 年的學習成果和研發(fā)經(jīng)驗匯編
成書,建立聯(lián)系我國集成電路芯片的研發(fā)和制造,設備、材料和軟件的研發(fā),以及大專院校、科研院所的科學
技術研究、人才培養(yǎng)的一座橋梁。
本書以光刻工藝為主線,有機地將光刻設備、光刻材料、光刻成像的理論計算、光刻工藝中各種建模思想
和推導、芯片制造的技術發(fā)展要求以及對光刻工藝各項參數(shù)的要求緊密地聯(lián)系在一起,給讀者一個整體的圖
景�！堆苌錁O限附近的光刻工藝》可供光刻技術領域科研院所的研究人員、大專院校的教師和學生、集成電路工廠的工程技術人員等
參考。