多年以來，有很多探索研究已經(jīng)成功地描述了晶體生長(zhǎng)的生長(zhǎng)工藝和科學(xué)，有許多文章、專著、會(huì)議文集和手冊(cè)對(duì)這一領(lǐng)域的前沿成果做了綜合評(píng)述。這些出版物反映了人們對(duì)體材料晶體和薄膜晶體的興趣日益增長(zhǎng)，這是由于它們的電子、光學(xué)、機(jī)械、微結(jié)構(gòu)以及不同的科學(xué)和技術(shù)應(yīng)用引起的。實(shí)際上，大部分半導(dǎo)體和光器件的現(xiàn)代成果，如果沒有基本的、二

《Springer手冊(cè)精選系列·晶體生長(zhǎng)手冊(cè)（第5冊(cè)）：晶體生長(zhǎng)模型及缺陷表征（影印版）》介紹了生長(zhǎng)工藝和缺陷形成的模型。這些章節(jié)驗(yàn)證了工藝參數(shù)和產(chǎn)生晶體質(zhì)量問題包括缺陷形成的直接相互作用關(guān)系。隨后的PartG展示了結(jié)晶材料特性和分析的發(fā)展。PartF和G說明了預(yù)測(cè)工具和分析技術(shù)在幫助高質(zhì)量的大尺寸晶體生長(zhǎng)工藝的設(shè)計(jì)

《Springer手冊(cè)精選系列·晶體生長(zhǎng)手冊(cè)（第4冊(cè)）：蒸發(fā)及外延法晶體生長(zhǎng)技術(shù)（影印版）》的主題是氣相生長(zhǎng)。這一部分提供了碳化硅、氮化鎵、氮化鋁和有機(jī)半導(dǎo)體的氣相生長(zhǎng)的內(nèi)容。隨后的PartE是關(guān)于外延生長(zhǎng)和薄膜的，主要包括從液相的化學(xué)氣相淀積到脈沖激光和脈沖電子淀積。

本書既是一本面向晶體學(xué)者的SHELXL軟件指南，也是一本教科書，它涵蓋了大量晶體結(jié)構(gòu)精修中可能遇到的難題，一步一步展示晶體結(jié)構(gòu)精修的方方面面，并通過示例文件和詳細(xì)講解說明問題、闡述機(jī)理。隨書光盤提供了重現(xiàn)這些精修過程需要的所有文件，方便讀者自行練習(xí)和對(duì)照。